台積電取得跨足10奈米以下先進製程最關鍵的極紫外光(EUV)機台,擺脫半導體摩爾定律可能受到的物理極限限制,成本還有再下降空間,未來將持續用來生產高通、蘋果等大客戶高階晶片。EUV機台要價9,000萬歐元(約新台幣36億元),被譽為是「半導體設備中的鑽石」,由於造價昂貴,已豎起進入門檻。
據了解,除了台積電之外,三星、英特爾、IBM也是向艾司摩爾下單EUV機台的「大戶」,這些公司將同時取得進入10奈米以下世代製程的門票,半導體業「愈高階製程愈走向寡占」的態勢更加確立。
主導EUV設備開發的艾司摩爾(ASML)亞太區技術行銷協理鄭國偉昨(3)日在台北國際半導體展(SEMICON Taiwan)開幕首日,透露相關訊息。
他表示,艾司摩爾已接獲多家半導體大廠共11台EUV訂單,首批六台已交貨,台積電在出貨名單之列。預料今年下半年到明年第1季,另五台設備也將完成交貨。
艾司摩爾這項宣布,透露先前遭遇技術瓶頸的EUV設備,克服關鍵輸出率不佳的最大瓶頸,有助半導體廠加速導入10 奈米量產腳步。
設備商透露,艾司摩爾現有11台EUV訂單當中,有兩台是台積電下單,其中一台已在台積電竹科12廠安裝完畢,正進行10奈米製程研發,另一台可能在明年首季於台積電中科廠裝設。台積電昨未對此置評。
業界評估,台積電有了EUV機台之後,先進製程推進腳步將更如虎添翼,甩開原本業界憂心礙於物理限制、恐無法順利導入10奈米以下製程的問題,若良率提升狀況順利,有助台積電成本持續下降。
鄭國偉說,艾司摩爾有信心,協助客戶在今年底前試產10奈米製程,並於2016年導入量產,後續也將著手為更先進的7奈米製程做準備。
業界預期,台積電10奈米製程量產之後,初期仍將承接高通、蘋果等需要更省電、更高階製程需求的行動通訊晶片大客戶訂單。台積電昨天漲2元、收128元;美國存託憑證(ADR)也在先進製程布局報喜激勵下,早盤漲逾1%。
艾司摩爾在開發EUV機台初期,考量相關投資龐大,對台積電、英特爾、三星提出投資邀約,希望集結各大廠的資源共同開發,三家業者隨後都同意入股。台積電在2012年10月投資8.38億歐元(約新台幣335.2億元),取得艾司摩爾5%股權。
載送EUV 動用11架次747
極紫外光(EUV)機台堪稱下世代半導體設備最昂貴、體積最大的核心設備,這項設備的零組件,須透過11個架次的波音747飛機載送,才能完成最後組裝。
據了解,EUV設備機台已儘量減少晶圓進出流程,但因必須在真空環境下進行曝光,否則會讓空氣吸收紫外光而影響曝光顯影的精準度,因此整部設備體積相當龐大,必須先拆解零組件,再於晶圓廠內組裝。
半導體廠需挑高更高「超大型晶圓廠」,才能擺設EUV機台;機台搬運過程也大費周章,要11架次的波音747飛機運送。
新聞辭典》極紫外光
極紫外光(EUV)技術是次世代微影技術之一,被半導體視為跨入10奈米製程以下,取代傳統浸潤式曝光(Immersion )、進入18吋晶圓的一項重要微影技術。
浸潤式曝光機台是在光源與晶圓中間加入水的原理,使波長縮短到132奈米的微影技術,EUV曝光設備是利用波長極短的紫外線,在矽基板上刻出更微細的電路圖案。
EUV售價昂貴,一台售價高達9,000萬歐元(約新台幣36億元),主力設備開發廠艾司摩爾(ASML)為降低開發風險,要求英特爾、三星及台積電以入股方式,共同參與這項先進微影技術開發。
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